8 tommu 200 mm sílikonkarbíð SiC oblátur 4H-N gerð Framleiðsluflokkur 500um þykkt

Stutt lýsing:

Shanghai Xinkehui tækni.Co., Ltd býður upp á besta úrvalið og verðið fyrir hágæða kísilkarbíðplötur og undirlag allt að 8 tommu þvermál með N- og hálfeinangrandi gerðum.Lítil og stór hálfleiðarafyrirtæki og rannsóknarstofur um allan heim nota og treysta á kísilkarbíðskífurnar okkar.

Sendu tölvupóst til okkar

Upplýsingar um vöru

Vörumerki

200 mm 8 tommu SiC undirlagslýsing

Stærð: 8 tommur;

Þvermál: 200mm±0,2;

Þykkt: 500um±25;

Yfirborðsstefna: 4 í átt að [11-20]±0,5°;

Hakstefna: [1-100]±1°；

Hakdýpt: 1±0,25 mm；

Örpípa: <1cm2;

Hexplötur: Engar leyfðar;

Viðnám: 0,015~0,028Ω;

EPD: <8000cm2;

TED: <6000cm2

BPD: <2000cm2

TSD: <1000cm2

SF: flatarmál <1%

TTV≤15um；

Undið ≤40um；

Bow≤25um；

Fjölsvæði: ≤5%;

Klóra: <5 og uppsöfnuð lengd< 1 þvermál obláta;

Flögur/inndráttur: Engin leyfi D>0,5 mm breidd og dýpt;

Sprungur: Engar;

Blettur: Enginn

Ofnbrún: Afrönd;

Yfirborðsáferð: Double Side Polish, Si Face CMP;

Pökkun: Multi-wafer snælda eða stakur obláta ílát;

Núverandi erfiðleikar við undirbúning 200mm 4H-SiC kristalla aðal

1) Undirbúningur hágæða 200mm 4H-SiC frækristalla;

2) Ójafnvægi í stórum stærðarhitasviði og stjórn á kjarnaferli;

3) Flutningaskilvirkni og þróun loftkenndra íhluta í stærri kristalvaxtarkerfum;

4) Kristallsprungur og útbreiðslu galla af völdum mikillar hitauppstreymisaukninga.

Til að sigrast á þessum áskorunum og fá hágæða 200 mm SiC oblátalausnir eru lagðar til:

Að því er varðar 200 mm frækristal undirbúning, var viðeigandi hitastigsflæðissvið og stækkandi samsetning rannsakað og hannað til að taka tillit til kristalgæða og stækkandi stærðar;Byrjaðu á 150 mm SiC se:d kristal, framkvæmu endurtekningu frækristalla til að stækka SiC kristal smám saman þar til hún nær 200 mm;Með margföldum kristalvexti og vinnslu, fínstilltu kristalgæði smám saman á kristalstækkandi svæðinu og bættu gæði 200 mm frækristalla.

Hvað varðar 200 mm leiðandi kristal og undirbúning undirlags, hafa rannsóknir fínstillt hönnun hitastigsins og flæðisviðsins fyrir kristalvöxt í stórum stærðum, framkvæmt 200 mm leiðandi SiC kristalvöxt og stjórnað einsleitni lyfjanotkunar.Eftir grófa vinnslu og mótun kristalsins fékkst 8 tommu rafleiðandi 4H-SiC hleifur með venjulegu þvermáli.Eftir klippingu, slípun, fægja, vinnslu til að fá SiC 200mm oblátur með þykkt 525um eða svo