8 tommu 200 mm Sapphire Wafer Carrier Subsrate 1SP 2SP 0,5 mm 0,75 mm

Stutt lýsing:

8 tommu safír undirlagsskúffan er hágæða, endingargott kristalefni sem notað er í ýmsum forritum. Það er þekkt fyrir framúrskarandi hitauppstreymi og efnafræðilegan stöðugleika, sem og mikla sjónræna gagnsæi.

Sendu tölvupóst til okkar

Upplýsingar um vöru

Vörumerki

Framleiðsluaðferð

Framleiðsluferlið á 8 tommu safír undirlaginu felur í sér nokkur skref. Í fyrsta lagi er háhreint súrálduft brætt við háan hita til að mynda bráðið ástand. Síðan er frækristalli sökkt í bræðsluna sem gerir safírnum kleift að vaxa þegar fræin dragast hægt til baka. Eftir nægjanlegan vöxt er safírkristallinn skorinn vandlega í þunnar oblátur sem síðan eru slípaðar til að fá slétt og gallalaust yfirborð.

Notkun 8 tommu safír undirlags: 8 tommu safír undirlag er mikið notað í hálfleiðaraiðnaði, sérstaklega í framleiðslu á rafeindatækjum og sjónrænum hlutum. Það þjónar sem afgerandi grunnur fyrir vöxt hálfleiðara, sem gerir myndun hágæða samþættra hringrása, ljósdíóða (LED) og leysidíóða kleift. Safír undirlagið finnur einnig til notkunar í framleiðslu á sjóngluggum, úrskífum og hlífðarhlífum fyrir snjallsíma og spjaldtölvur.

Varan Upplýsingar um 8 tommu safír undirlag

- Stærð: 8 tommu safír undirlagið er 200 mm í þvermál, sem veitir stærra yfirborðsflatarmál fyrir útfellingu epitaxiallaga.

- Yfirborðsgæði: Yfirborð undirlagsins er vandlega slípað til að ná háum sjónrænum gæðum, með yfirborðsgrófleika sem er minna en 0,5 nm RMS.

- Þykkt: Staðlað þykkt undirlagsins er 0,5 mm. Hins vegar eru sérsniðnar þykktarvalkostir fáanlegir sé þess óskað.

- Pökkun: Safír undirlagið er sérpakkað til að tryggja vernd við flutning og geymslu. Þeir eru venjulega settir í sérstaka bakka eða kassa, með viðeigandi dempunarefnum til að koma í veg fyrir skemmdir.

- Kantarstefna: Undirlagið kemur með tiltekinni brúnstefnu, sem er mikilvægt fyrir nákvæma röðun í framleiðsluferli hálfleiðara.

Að lokum er 8 tommu safír undirlagið fjölhæft og áreiðanlegt efni, mikið notað í hálfleiðaraiðnaðinum vegna einstakra hitauppstreymis, efnafræðilegra og sjónrænna eiginleika. Með framúrskarandi yfirborðsgæði og nákvæmum forskriftum þjónar það sem mikilvægur þáttur í framleiðslu á afkastamiklum rafeinda- og sjóntækjabúnaði.